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    微庫侖滴定儀

    更新時間:2018-03-20

    簡要描述:

    HCPK—200 微庫侖滴定儀基于動態微庫侖滴定原理設計而成。樣品引入高溫裂解管,其中待滴定的成分經氧化由載氣帶入滴定池中,測量電解滴定過程中所消耗的電量,依法拉第定律即可測得樣品的含量。

     

    微庫侖滴定儀概述

    HCPK200 微庫侖滴定儀基于動態微庫侖滴定原理設計而成。樣品引入高溫裂解管,其中待滴定的成分經氧化由載氣帶入滴定池中,測量電解滴定過程中所消耗的電量,依法拉第定律即可測得樣品的含量。

    特點

    ⑴、    具有技術的樣品裂解滴定系統,zui小檢測量提高了10倍,達到0.05ppm

    ⑵、    設計的進樣器,攪拌器,使儀器的穩定性有了進一步提高。

    ⑶、    整機設計采用模塊化結構,簡捷、緊湊、維護方便。

    ⑷、    采用Windows中文操作平臺,操作直觀、方便,動態顯示分析過程中實時數據和分析譜圖,具有譜圖保存功能、歷史譜圖查看功能、數據存貯及自動生成打印報表等功能,可聯接LIMS工作站等。

    應用

    測定各類固體、液體、氣體中的總硫、總氯含量。儀器廣泛應用于石化、石油、化工、環保、冶金、高校等部門的產品分析、科學研究。

    技術規格

    分析方法:動態微庫侖法

    測量范圍:S0.055000ppm   Cl0.35000ppm

    zui大電解電壓:±30V

    偏壓范圍:0500mV

    所需氣體:氧氣(純度99.7%  氮氣(純度99.7%

    控溫范圍:室溫~1000

    標    準:符合SH/T 0254SH/T 0523SH/T0222標準

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